摘要：隨著半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展，半導(dǎo)體清洗裝置成為半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中不可或缺的一部分。清洗裝置的核心是清洗液，可以通過化學(xué)反應(yīng)或物理作用去除半導(dǎo)體器件上的有害物質(zhì)。本文將從半導(dǎo)體清洗裝置的原理、應(yīng)用和發(fā)展三個(gè)方面進(jìn)行深入介紹。正文：一、原理半導(dǎo)體清洗裝置的原理是利用清洗液的化學(xué)性質(zhì)或物理機(jī)制來去除半導(dǎo)體器件表面的有害物質(zhì)。清洗液通常采用強(qiáng)酸、強(qiáng)堿或有機(jī)溶劑，含有氟、氯等活性元素。它們可以在表面上發(fā)生