日本功率半導體清洗設(shè)備:工業(yè)清洗新寵
摘要:隨著工業(yè)的不斷發(fā)展,清洗設(shè)備的需求也在不斷增加。日本功率半導體清洗設(shè)備成為了工業(yè)清洗的新寵兒,其高效、精準、可靠的特點備受關(guān)注。本文將從技術(shù)原理、清洗效果、安全性能、維護保養(yǎng)、價格優(yōu)勢和市場前景等多個角度對其進行分析和講解,希望可以為讀者提供一份清晰全面的資料參考。正文:一、技術(shù)原理日本功率半導體清洗設(shè)備基于氧化鋁/氧化鋯電化學反應原理,實現(xiàn)無線電場輔助電化學反應。電場作用下,氧化鋁/氧化鋯表面分解,生成氧化鎵、氧化铓等清洗效果更好的物質(zhì),同時氣體泡降低了清洗效果,直接斷電以后會自動氣泡清除,重新加電。該技術(shù)不僅強化了氧